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当下国内市场最为关心的技术就是光刻机 ， 而出现这样的情况 ， 完全是因为芯片国产化的进程所引导 ， 特别是在2020年 ， 《新时期促成集成电路产业和软件高质量发展的若干政策》颁布 ， 提出5年实现芯片自给率70%的目标之后 ， 国内的造芯势力变得越来越强大 。
而在相关扶持之下 ， 我国的半导体制造产业链也是迅速爆发 ， 特别是在芯片指令集架构、半导体用光刻胶等方面更是一飞冲天 ， 实现了重大突破 。

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但是 ， 光刻机技术却一直是国内芯片技术之中被重点关注的对象 ， 究其原因是因为在芯片制造产业链中包含着非常复杂的过程 ， 而在这个过程中需要用到的技术有很多 ， 诸如离子注入机、等离子蚀刻机、反应离子刻蚀系统等 。
【还有6个月，国产光刻机关键时刻来临！】在这些技术中 ， 有些我国企业已经走在了世界领先水平 ， 例如上海中微半导体设备公司研发的等离子刻蚀机已经达到了3nm水准 ， 处于世界一线水平 。

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但是 ， 有些技术却存在短板 ， 其中水平最低的就是光刻机 ， 这也是光刻机备受关注的根本 ， 但是 ， 这种情况其实不光是存在我国市场 ， 当下全球除了荷兰、日本之外 ， 其他地区也同样无法造出高精度光刻机 ， 甚至老美在光刻机制造领域的技术还比不上我们 。
因为 ， 目前上海微电子已经可以批量生产用于制造90nm芯片的光刻机了 ， 这是除了荷兰ASML、日本尼康、佳能之外 ， 比较先进的水平 。

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并且 ， 在2020年上海微电子还传出消息显示 ， 将在2021年到2022年交付第一台28nm工艺的国产沉浸式光刻机 。 这也就意味着我国在芯片制造领域又迈进了先进一步 。
而距离2022年底还有6个月 ， 这六个月任何时候28nm国产光刻机的问世 ， 都代表国产光刻机的关键时刻来临 ， 因为一旦28nm光刻机国产化 ， 伴随着华为芯片堆叠技术以及中芯国际的代工技术 ， 华为的麒麟芯片将重新复苏 ， 同时也让我国芯片设计企业更有底气 。

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所以说 ， 28nm光刻机的问世的确意义重大 ， 而之所以没有说在短时间追求14nm或者更高工艺的光刻机 ， 本质上并非是我国企业的技术不行 ， 而是供应链的问题 ， 这也是之前ASML公司敢说把图纸给我们 ， 也造不出EUV光刻机的原因 。
因为EUV光刻机的零部件高达10万之众 ， 而这些零部件绝大部分都是来源于不同地区的不同公司 ， 例如极紫外光的光源来源于老美 ， 而镜头来源于德国莱卡 。

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所以说 ， 更多的时候 ， 可能是我国企业的制造技术已经成熟 ， 只是受限于供应链不够完善 ， 才出现了光刻机技术发展缓慢的问题 ， 而当下我国突破EUV光刻机的核心办法 ， 除了加强光源技术的突破之外 ， 还在不断培养国内相关供应链企业的崛起 ， 因为只有国内众多企业的合力才能够快速解决EUV光刻机的问题 。
至于ASML公司认为我国造不出EUV光刻机 ， 其实是太低估我国企业的实力了 ， 就拿上海微电子来说 ， 虽然光刻机的发展进度有些慢 ， 达不到世界一流水准 ， 但是上海微电子的跨步还是非常快的 ， 从280nm再到110nm再到90nm ， 以及接下来的28nm ， 相信很快就可以推进到14nm 。