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12月29日 ， 韩国媒体《朝鲜日报》发表文章称 ， 据悉 ， 在中国政府的大力支持下构建半导体生态系统的华为 ， 申请了尖端半导体工程中必须的极紫外线（EUV）技术专利 。 随着美国制裁的长期化 ， 未能获得荷兰半导体设备公司ASML独家供应的EUV设备 ， 因此 ， 他们打算通过自主开发寻找突破口 。 但能否实现实际生产还是未知数 。 因为被誉为“人类制造的机器中最精密的设备”的EUV制造需要全球先进的零部件供应链 。
【韩媒：中国华为挑战半导体“梦想设备”EUV开发，“努力10年都不可能”！】
华为上月15日向中国知识产权局申请了一项与EUV光刻技术相关的专利（申请号202110524685X） 。 EUV光刻是在半导体工艺过程中 ， 在晶圆上形成电路图案的曝光过程中使用极紫外波长光源的技术 。
上月底 ， 华为在其网站上发布了一篇题为《华为入局——中国EUV光刻设备创新》的帖子 。 华为表示：“为了改善半导体芯片的开发 ， 决定获得各项技术专利 。 申请专利的光刻系统由特殊反射镜、照明系统、各种镜头等多种要素组成 。 ”华为认为 ， 此次专利涉及光刻系统和反射镜等 ， 由此可以解决用于EUV设备的光源光线不均匀的问题 。 据悉 ， 专利尚未通过 。
不仅是华为 ， 中国研究机构也齐心协力 ， 积极参与EUV技术研发 。 中国清华大学研究院和中国科学院也在自主研发EUV相关技术 。 据悉 ， 他们正在开发绕过美国技术 ， 采用新方式的EUV技术 。

中国积极开发EUV技术是因为新一代半导体生产需要EUV曝光设备 。 全世界半导体制造商一致认为 ， 为了7纳米（1纳米是十亿分之一米）以下的超微工程 ， EUV是必须的 。 EUV由荷兰ASML独家提供 。 如果不能及时得到EUV ， 就会在微细工程竞争中落后 ， 因此各企业之间为抢先得到该产品而展开了激烈的争夺战 。 但中国从2019年开始因美国制裁而无法引进ASML的新型装备 。 外媒报道说：“现在不仅是采用7纳米以下工程的芯片 ， 连华为开发的高性能芯片也无法生产 。 ”
梦想着半导体自立的中国 ， 以通信设备世界第一、中国代表性企业华为为首 ， 正在打造半导体生态系统 。 华为得到政府的大力支持 ， 拥有各种半导体子公司 。 以自家智能手机芯片设计企业海思为开端 ， 去年在华为总部所在地深圳成立了半导体后工程专门企业“华为精密制造有限公司” 。 另外 ， 还在建设另一家子公司代工（半导体委托生产）企业“PXW”工厂和其他半导体制造工厂 。

很多人认为 ， 即使得到政府的全面支援 ， 也很难成功开发出EUV设备 。 仅研发就耗时10年以上的ASML EUV设备 ， 使用了10万多个零部件 ， 除了ASML自身技术外 ， 还汇集了美国光源技术、德国光学技术、日本零部件等各国尖端技术 。 在实际生产装备之前 ， 必须要有能够获得众多优质零部件供应的巨大全球供应网 ， 而目前中国事实上已经不可能打通这条供应网 。 美国政府认为ASML的EUV中包含了美国技术 ， 因此不允许荷兰向中国出口 。
随着来自美国的制裁将影响力扩大到全世界主要核心技术拥有国 ， 中国的半导体自立计划面临困境 。 中国宣布了“中国制造2025” ， 并表示将在半导体产业投资1万亿元人民币 ， 将半导体自给率提高到70% 。 但业界认为 ， 到2025年自给率还不到30% 。
哈佛商学院教授 Willie Sheh 表示 ， “半导体自主供应链的目标对全世界任何国家来说都是完全不现实的 。 ASML技术是说明为什么需要进行全球交易的很好的例子 。 ”韩国成均馆大学化学工学系教授权锡俊表示：“虽然要分析专利文件才能准确了解 ， 但即使开发10年 ， 也很难制造出质量获得市场认可的EUV光刻机 。 ”